真空/气氛保护区域熔炼炉

产品简介

真空/气氛保护区域熔炼炉 晶体炉用于高温金属及合金的区熔熔炼和材料提纯制备模块化设计，结构紧凑，外形美观

详细介绍

一：真空/气氛保护区域熔炼炉 晶体炉设备用途主要用于金属基合金材料的定向凝固晶体生长和材料的高温提纯使用

二·真空/气氛保护区域熔炼炉 晶体炉产品特点

1.模块化设计，结构紧凑，外形美观，

2.采用底部电动升降和结构精巧，方便，移动平稳装卸料方便

3.采用触摸屏+plc控制方式，自动化程度高，操作直观，功能强大。

4.在触摸屏内可预存几十种烧结工艺，一次编辑，以后直接调用使用，省去多次编辑工艺的麻烦，避免输入错误，烧坏产品。

烧结的温度，真空度，等数据可实时记录，也可随时启动停止记录，减少无用数据，数据可查询，可导出下载5.

6.烧结温度高，用石墨发热体，可达1650°C

三·设备参数

1.设备总功率:≤15Kw;电源电压:3相380V50HZ2.温度:1650℃℃加热功率 ≤8Kw 单相220V

3·额走温度:室温~1600°C

4.工作区尺寸:Ф30x200mm(直径x高，)

5.测温系统:红外

6.坩埚下降速度:慢速升降0.1-10mm/h(伺服控制)快速升降50-200mm/min(带手动升降)

位移行程 ≤150mm

≤300mm/20kg

7.中心轴有效行程/載重:≤0.05MPa

8.炉内充气压力:≤0.05MPa